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公司新聞

新型深探測(cè)試驗(yàn)變壓器儀器測(cè)量的另一個(gè)重要應(yīng)用
是可以繪制儲(chǔ)層或界面的連續(xù)性。為商用EM測(cè)量結(jié)果（繪制了近100m測(cè)量深度的儲(chǔ)層B頂部）的反演。
　　繪制儲(chǔ)層B頂部的商用EMLWD測(cè)量結(jié)果的實(shí)時(shí)反演采用新型深探測(cè)EMLWD儀器，可在超過(guò)550m的距離（從位于頂部垂直距離5m、測(cè)量深度為XX650m開(kāi)始，經(jīng)過(guò)XX725m處的著陸點(diǎn)，一直到總深度X1200m、距離頂部垂直距離17m的井底范圍）繪制該層的頂部，如所示。
　　試驗(yàn)變壓器由于注水，儲(chǔ)層下面垂直深度大約15m處可能是低阻層。由于在試驗(yàn)井中觀察到低阻層段，所以這種解釋得到了支持。解釋歸因于指狀水侵。
　　反演用于觀測(cè)幾個(gè)重要特征：追蹤儲(chǔ)層B頂部　位于井眼軌跡之上垂直深度17m處；識(shí)別位于垂直深度XX750m處低阻界面，大多數(shù)在井眼軌跡以下垂直深度20m處；在井鉆進(jìn)和鉆出地層時(shí)，詳細(xì)描述軌跡下面的低阻層。
　　新型深探測(cè)EMLWD儀器反演的構(gòu)造信息將用于設(shè)計(jì)該油田未來(lái)井眼導(dǎo)向。綜合該信息與地震和生產(chǎn)數(shù)據(jù)之后，構(gòu)造信息的區(qū)域推廣對(duì)于更新地質(zhì)模型、改進(jìn)總體解釋將是一個(gè)重要的輸入量。
　　試驗(yàn)變壓器新型深探測(cè)EM測(cè)量結(jié)果的實(shí)時(shí)反演，顯示儲(chǔ)層B頂部的繪圖情況（低阻層歸因于存在注水）3實(shí)例井2
　　新型深探測(cè)EMLWD**次測(cè)試是在1口復(fù)雜地質(zhì)構(gòu)造的注入井中進(jìn)行的。
　　注入井的導(dǎo)向目標(biāo)是在薄泥夾層砂巖層穿過(guò)約750m距離。
　　設(shè)計(jì)的井眼軌跡在套管鞋處傾斜88，然后增至90，在砂巖層C鉆井大約180m.橫穿C和D之間的界面之后，井眼軌跡將在砂巖層D內(nèi)部繼續(xù)240m　.設(shè)計(jì)軌跡的*后300m將在砂巖層C和D的內(nèi)層中鉆進(jìn)。新型深探測(cè)試驗(yàn)變壓器儀器測(cè)量的另一個(gè)重要應(yīng)用
　　一旦穿過(guò)水平井段的中心，電阻率對(duì)比大的儲(chǔ)層上部距離該井的垂直距離超過(guò)30m，準(zhǔn)確詳細(xì)地繪制砂巖層C和D之間的邊界　就是*大的導(dǎo)向挑戰(zhàn)。
　　該井反演結(jié)果證明，反演程序識(shí)別單層的能力決定于層厚和圍巖電阻率差異。在高阻層測(cè)量時(shí)獲得了*好的結(jié)果，正如傳播電阻率測(cè)量結(jié)果。
　　試驗(yàn)變壓器對(duì)于該井來(lái)說(shuō)，在兩個(gè)測(cè)量區(qū)間完成了新型深探測(cè)EM測(cè)量，即區(qū)間1和區(qū)間2（它是*深的區(qū)間）.
　　短區(qū)間的測(cè)量結(jié)果的反演。這些測(cè)量結(jié)果可以解決離井眼軌跡近的薄層，但該環(huán)境下，探測(cè)深度極為有限，大約5m.反演結(jié)果與井眼電成像一致。
　　井眼*初在C儲(chǔ)層內(nèi)部導(dǎo)向，在測(cè)量深度大下部：新型深探測(cè)EMLWD在*短區(qū)間的測(cè)量結(jié)果的反演。井眼*初導(dǎo)向砂巖C，然后橫穿至砂巖D.上部：井眼電成像約為XX170m處穿過(guò)該儲(chǔ)層底部。穿過(guò)C/D泥巖夾層后，砂巖D也被穿透，但穿過(guò)砂巖D底部的井眼，在測(cè)量深度為XX265m處接觸的主要是含水砂巖層。反演給出了含水砂巖層的位置，但是由于與泥巖內(nèi)層的電阻率差異不大，問(wèn)題還不能完全解決。
　　短間距和中等間距的深EMLWD儀器測(cè)量結(jié)果的反演。盡管該環(huán)境下這些測(cè)量區(qū)間的*大探測(cè)深度約為10m，但是該反演仍能給出相對(duì)好的地層分辨率。
　　下部：短區(qū)間和中等區(qū)間中新型深探測(cè)EM測(cè)量結(jié)果的反演。井眼*初導(dǎo)向砂巖C，然后橫穿砂巖D（地表S4之下）.上部：井眼電成像與中反演對(duì)比，　中的反演顯示了更多的信息，如地層邊界的連續(xù)性和地層分辨率，這些信息可以降低復(fù)雜地質(zhì)情況中井眼的地層位置的不確定性。幾乎所有超過(guò)10mTVD的界面都可被記錄下來(lái)。砂巖C中的內(nèi)表面可被識(shí)別和繪制。新型深探測(cè)試驗(yàn)變壓器儀器測(cè)量的另一個(gè)重要應(yīng)用
　　所有測(cè)量區(qū)間的深探測(cè)EMLWD測(cè)量結(jié)果的反演。這些測(cè)量結(jié)果證明新儀器探測(cè)深度較深，但地層邊界分辨率降低（反演相比）.觀察到反演的*重要的特點(diǎn)是整個(gè)井段上都可識(shí)別出幾乎所有重要的地質(zhì)界面。例如，在超過(guò)250mMD的距離時(shí)就可以識(shí)別儲(chǔ)層C底部表面。
　　多個(gè)地層邊界位置的反演討論。所有區(qū)間的新型深探測(cè)EMLWD測(cè)量結(jié)果都可用于反演4實(shí)例井
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